設備名稱 Equipment Name

單晶槽式制絨設備 Mono-crystalline Batch Texturing Equipment

設備型號 Equipment Model

SC-CSZ8000E-16F

設備用途 Equipment Application

主要對單晶硅太陽能電池用硅片進行絨面腐蝕和清洗處理。
Used for texturing& cleaning of mono crystalline wafers.

工藝流程 Process Flow

去損傷→預清洗→單晶制絨→后清洗或O₃清洗→酸洗→預脫水→烘干（供參考）  
Saw damage removal→Pre-cleaning→Mono-texturing→Post-cleaning/O₃ cleaning→Acid cleaning→Hot water drying→Drying (for reference only)

技術特點  Features

1、產能：400片/批， 8000片/時。
Throughput: 400pcs/batch, 8000pcs/h.

2、工藝槽循環量可調。
Process bath circulation volume adjustable.

3、制絨金字塔均勻，刻蝕深度可調。
Uniform pyramids texture, etch depth adjustable.

4、支持最薄120μm硅片。
Wafer thickness handling capability up to 120μm.

5、潔凈干燥區域，自潔凈干燥系統。
With clean dry area and self-clean dry system.

6、不需要加H₂O₂。
H₂O₂ free.

7、快速換液，在線換液。
Quick inline bath change.

8、支持MES、RFID及選配在線稱重功能。
Available with MES, RFID system, inline weight testing optional.

設備參數 Parameters