設備名稱 Equipment Name

管式低壓淀積爐  Horizontal LPCVD

設備型號 Equipment Model

LD-420A

設備用途 Equipment Application

本設備主要用于晶體硅太陽能電池制造中硅片表面淀積多晶硅及原位摻雜。

Equipment Application: mainly used for deposition of Poly-Si layer and in-situ doping in the production of c-si solar cells.

技術特點  Features

1、低壓化學氣相淀積功能。
Low pressure chemical vapor deposition.

2、多重水冷密封機構。
Multiple water-cooled tube sealing technology.

3、反應管雙層結構。
Double-layer quartz tube structure.

4、獨立調節分段進氣方式。
Independently regulated sectional air inlet.

5、平移式爐門驅動機構。
Translational furnace door driver mechanism.

6、高速平穩整體模組推舟機構。
High-speed integral module boat pushing mechanism.

7、全數字化控制。
Digital control.

8、更多溫區溫度控制。
More temperature zone control.

9、智能化全自動控制。
Intelligent automatic control.

10、全面的防超溫、斷偶、撞舟等安全報警保護功能。

Alarm protection for over-heating, thermocouple-break and boat collision.

設備參數  Parameters